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靶材制约着溅镀薄膜的物理,力学性能,影响镀膜质量,因而要求靶材的制备应满足以下要求: 1、纯度:要求杂质含量低纯度高,靶材的纯度影响薄膜的均匀性,以纯Al靶为例,纯度越高,溅射Al膜的耐蚀性及电学、光学性能越好。
溅射靶材是指通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜设备在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。溅射靶材广泛应用于装饰、工模具、玻璃、电子器件、半导体、磁记录、平面显示、太阳能电池等众多领域,不同领域需要的靶材各不相同。
钨靶材经常作为物理气相沉积用溅射靶材,在半导体领域用于制作栅电极、连接布线、扩散阻挡层等。钨靶材主要应用于航天、稀土冶炼、电光源、化工设备、医疗器械、冶金机械、熔炼设备、石油、等领域。
一项打破国外公司垄断的关键技术,一块价值几万美元的“金属饼”,一件出厂便能影响到1000万辆汽车、1000万台手机的产品,一个关乎国家安全的战略产业,一段扎根甬城12年的创业传奇……
光学镀膜材料包括那些内容?下面就简单的为大家介绍一下靶材的基本信息。 光学镀膜,影响一面平面透镜的透光度有许多成因。镜面的粗糙度会造成入射光的漫射,降低镜片的透光率